TWOJA PRZEGLĄDARKA JEST NIEAKTUALNA.
Wykryliśmy, że używasz nieaktualnej przeglądarki, przez co nasz serwis może dla Ciebie działać niepoprawnie. Zalecamy aktualizację lub przejście na inną przeglądarkę.
Data: 14.06.2022
W dniu 13 VI 2022 roku w Katedrze Nanometrologii zorganizowane zostało seminarium naukowe poświęcone zastosowaniom struktur typu III-N w mikroskopii bliskich oddziaływań. Seminarium zaszczycili obecnością zagraniczni specjaliści w zakresie mikroskopii bliski oddziaływań i jonowej: prof. Tito Busani z wydziału Informatyczno-Elektrycznego Uniwersystetu Nowego Meksyku w Albuquerque oraz prof. Iwo Rangełow z Uniwersystetu Technicznego w Ilmenau. Seminarium poprowadził dr Piotr Grabiec, specjalista technologii wytwarzania mikrosystemów związany z Instytutem Mikroelektroniki i Fotoniki Sieci Badawczej Łukasiewicz w Warszawie.
Wygłoszono 4 prezentacje tematyczne: Recent advancements of III-N materials in probe digital lithography, microscopy and NSOM (prof. Tito Busani), Field Emission- Scanning Probe Lithography (prof. Iwo Rangełow), Scanning electron microscopy with focused ion beam for fabrication and analysis of micro- and nanodevices (mgr inż. Ewelina Gacka), Wurtzite nitrides diluted by arsenic - new perspective (dr hab. inż. Damian Pucicki) w dwóch sesjach wykładowych. Dyskusje w przerwach pomiędzy wystąpieniami obfitowały w pytania i nowe pomysły.
Wizyta zakończona została poczęstunkiem dla gości oraz wizytą w laboratoriach, która ujawniła kolejne wspólne zainteresowania.